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Coauteurs
- Alexander MitsosAVT Systemverfahrenstechnik, RWTH Aachen University and Energy Systems Engineering IEK-10Adresse e-mail validée de alum.mit.edu
- Adel MhamdiProfessor for Process System Engineering, RWTH Aachen UniversityAdresse e-mail validée de avt.rwth-aachen.de
- Pascal SchäferBASF SEAdresse e-mail validée de basf.com
- Artur M. SchweidtmannDelft University of Technology, Department of Chemical EngineeringAdresse e-mail validée de tudelft.nl
- Michael BaldeaProfessor, University of Texas at Austin; Editor in Chief, I&ECRAdresse e-mail validée de che.utexas.edu
- Johannes M. M. FaustRWTH Aachen University, Aachener Verfahrenstechnik, Lehrstuhl für Systemverfahrenstechnik (AVT.SVT)Adresse e-mail validée de avt.rwth-aachen.de
- Lorenz BieglerCarnegie Mellon UniversityAdresse e-mail validée de andrew.cmu.edu
- Anna-Maria EckerLinde GmbHAdresse e-mail validée de linde.com
- Dominique BonvinProfessor of Automatic ControlAdresse e-mail validée de epfl.ch
- Michael BortzFraunhofer ITWMAdresse e-mail validée de itwm.fraunhofer.de
- Norbert AsprionBASF SEAdresse e-mail validée de basf.com
- Christodoulos A. FloudasDirector, Texas A&M Energy Institute, Erle Nye '59 Chair Professor for Engineering ExcellenceAdresse e-mail validée de tamu.edu
- Jan C. SchulzeRWTH Aachen University, Aachener Verfahrenstechnik, Lehrstuhl für Systemverfahrenstechnik (AVT.SVT)Adresse e-mail validée de avt.rwth-aachen.de
- Alexei LapkinUniversity of CambridgeAdresse e-mail validée de cam.ac.uk
- Hatim DjelassiAdresse e-mail validée de rwth-aachen.de
- Calvin TsayImperial College London, Department of ComputingAdresse e-mail validée de imperial.ac.uk
- Chrysoula D. KappatouImperial College LondonAdresse e-mail validée de imperial.ac.uk
- Ralf Hannemann-TamasForschungszentrum JülichAdresse e-mail validée de fz-juelich.de
- Andreas Michael BremenRWTH AachenAdresse e-mail validée de rwth-aachen.de
- Steffen FahrPhD candidate at Technische Universität MünchenAdresse e-mail validée de rwth-aachen.de